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FR-Mic多層膜厚度測試儀是一款快速、準確測量薄膜表征應用的模塊化解決方案，可以將光斑縮小到幾個微米，進而分析微小區(qū)域或者粗糙表面薄膜特征。它可以配備一臺專用計算機控 制的 XY 工作臺，使其快 速、方便和準確地描繪樣品的厚度和光學特性 。也可以搭配自動平臺測量 400x400mm 大小樣品。
Thetametrisis利用 FR-Mic，通過紫外/ 可見/ 近紅外可輕易對局部區(qū)域薄膜厚度，厚度映射，光學常數(shù)，反射率，折射率及消光系數(shù)進行測量。
【相關應用】
高校 & 研究所實驗室
半導體制造 (氧化物/氮化物， 硅膜, 光刻膠及其他半導體薄膜.)
MEMS 器件 (光刻膠, 硅膜等.)
LEDs, VCSELs 多層膜測量應用
數(shù)據(jù)存儲
陽極處理氧化膜
曲面基底的硬化涂層
聚合物膜層, 粘合劑.
生 物醫(yī)學(聚對二甲苯, 生物膜/氣泡壁厚度.)
OEM或客制化應用
【特點】
實時光譜測量
薄膜厚度，光學特性，非均勻性測量， 厚度映射
使用集成 USB 高品質(zhì)彩色攝像機進行成像 (所視即所測)
【技術參數(shù)】
*測量面積(收集反射或透射信號的面積)與顯微鏡物鏡和 FR-uProbe 的孔徑大小有關。
【工作原理】
1、規(guī)格如有更改，恕不另行通知；
2、測量結果與校準的光譜橢偏儀和 XRD 相比較,
3、連續(xù) 15 天測量的標準方差平均值。樣品：(1um SiO2 on Si.) ,
4、100 次厚度測量的標準方差，樣品：1um SiO2 on Si.
5、超過 15 天的標準偏差日平均值樣品：1um SiO2 on Si。
6、使用反射式物鏡。
